等離子清洗可以處理各種材料，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等聚合物)。所以特別適合不耐熱不耐溶劑的材料。還可以選擇性地部分清洗材料的整體、局部或復雜結構；

　　無線電波范圍內的高頻產生的等離子體不同于激光等直射光。等離子體的方向性不強，可以深入到物體的微孔和凹陷處完成清潔任務，所以不需要過多考慮被清潔物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗相似甚至更好；

　　真空等離子清洗機利用等離子體中各種高能物質的活化作用，徹底剝離附著在物體表面的污垢。以氧等離子體去除物體表面的油脂和污垢為例來說明這些作用。等離子體對油垢的作用類似于燃燒油垢。但不同的是，它在低溫下“燃燒”。其基本原理:在氧等離子體中氧原子自由基、受激氧分子、電子和紫外線的共同作用下，油分子最終被氧化成水和二氧化碳分子，從物體表面被清除。

　　真空等離子清洗機

　　1.對材料表面的蝕刻作用-物理作用:

　　等離子體中大量的離子、受激分子、自由基等活性粒子作用于固體樣品表面，不僅去除了表面原有的污染物和雜質，還產生刻蝕，使樣品表面變得粗糙，形成許多微小的凹坑，增加了樣品的比表面積。改善固體表面的潤濕性。

　　2、活化鍵能，交聯:

　　等離子體中粒子的能量為0~20eV，而聚合物中大部分鍵的能量為0~10eV。因此，等離子體作用于固體表面后，可以打破固體表面原有的化學鍵，等離子體中的自由基與這些鍵形成網狀交聯結構，極大地激活了表面活性。

　　3、新官能團的形成——化學作用:

　　如果在放電氣體中引入活性氣體，在活性材料的表面會發生復雜的化學反應，產生新的官能團，如烴基、氨基、羧基等。，它們能明顯提高材料的表面活性。