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沈陽鵬程脈沖激光沉積設備廠家在線咨詢

   2025-10-08 180
核心提示:在眾多薄膜制備方法中,脈沖激光沉積技術應用范圍廣泛,可以制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜,甚至還可以用來制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等。脈沖激光沉積簡介脈沖激光沉積是一種廣泛應用于各種薄膜制備技術的方法,其原理是將激光聚焦于靶材上較小的面積。通過激光的高能量密度,部分靶材料被蒸發甚至電離,使其能夠脫離靶材并向基底運動,進而沉積于基底上,形成薄膜。此外,脈沖激光沉積(PLD)是一種“數字”技術,在納米尺度上進行工藝控制(A°/puls

脈沖激光沉積簡介

脈沖激光沉積是一種廣泛應用于各種薄膜制備技術的方法,其原理是將激光聚焦于靶材上較小的面積。通過激光的高能量密度,部分靶材料被蒸發甚至電離,使其能夠脫離靶材并向基底運動,進而沉積于基底上,形成薄膜。在眾多薄膜制備方法中,脈沖激光沉積技術應用范圍廣泛,可以制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜,甚至還可以用來制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等。

高能核素濺射表面的部分原子,并在入射流與受濺射原子之間,建立了一個碰撞區。通過控制鍍膜壓力和溫度,可以合成一系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。此外,脈沖激光沉積(PLD)是一種“數字”技術,在納米尺度上進行工藝控制(A°/pulse)。

沈陽鵬程真空技術有限責任公司是一家以誠信為首、服務至上為宗旨的公司,專注于脈沖激光沉積研發定制與生產。公司擁有強大的銷售團隊和經營理念,生產、銷售脈沖激光沉積,擁有先進的技術支持。靶臺可安裝6個靶位,靶材更換靈活;樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用;進樣室可存儲多個靶和樣品。交易過程無需繁瑣的進、出關手續,交貨期短,性價比高。如需了解更多脈沖激光沉積的相關內容,歡迎撥打圖片上的熱線電話。

 
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