品牌：其他

型號：ZK-D

原理類型：真空濺射鍍膜機

應用領域：光學薄膜

極限真空度類型：高真空0.00001~0.1Pa

極限真空度：0.00005Pa

鍍膜室尺寸：450mm

工作真空度：0.00005Pa

抽氣時間：30min

技術參數：

1.?????極限真空度：5×10-5Pa；

2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；

3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；

4.?????基板加熱溫度：900℃；

5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；

6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。

技術參數：

1.?????極限真空度：5×10-5Pa；

2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；

3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；

4.?????基板加熱溫度：900℃；

5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；

6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。

技術參數：

1.?????極限真空度：5×10-5Pa；

2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；

3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；

4.?????基板加熱溫度：900℃；

5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；

6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。

技術參數：

1.?????極限真空度：5×10-5Pa；

2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；

3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；

4.?????基板加熱溫度：900℃；

5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；

6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。

技術參數：

1.?????極限真空度：5×10-5Pa；

2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；

3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；

4.?????基板加熱溫度：900℃；

5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；

6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。

技術參數：

1.?????極限真空度：5×10-5Pa；

2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；

3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；

4.?????基板加熱溫度：900℃；

5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；

6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。