ARC-1000PVD電弧沉積鍍膜機

PVD涂層是通過蒸發過程在真空室中進行的。鈦通過磁控濺射或多弧蒸發。我們使用這兩種技術生產PVD系統。帶正電的鈦離子與氮氣、氬氣、乙炔或氧氣混合形成等離子體。帶正電的鈦等離子體被吸引到帶負電的工件上，從而在工件上形成薄而均勻的涂層。

ARC-1000是我公司最受歡迎的PVD鍍膜機型號。此模型是為功能應用程序而設計的。